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(Ni-P)-SiO2化学复合镀液中分散剂的研究

陈尔跃 , 杨晓超 , 徐娟 , 郭祥峰

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2014.10.004

在铜表面上的(Ni-P)-SiO2化学复合镀中,将Al2(SO4)、CoSO4和CrCl3作为纳米SiO2分散剂添加到镀液中.由分光光度计测定发现少量金属盐对纳米SiO2粒子在镀液中的分散稳定性均有一定程度提高.通过光电子能谱检测发现,Al2(SO4)3作为纳米SiO2分散剂的(Ni-P)-SiO2化学复合镀层中纳米SiO2沉积效果优于其他分散剂.0~8nm深度刻蚀检测表明镀层中纳米SiO2质量分数稳定.实验表明,以Al2(SO4)3作为分散剂最佳质量浓度为3.06~ 4.08 g/L.

关键词: (Ni-P)-SiO2 , 化学复合镀 , 分散剂 , 纳米SiO2 , 镀层

Ni-P-金刚石/TiAlN双层涂层的耐磨性能研究

林佳平 , 江鸢飞 , 冯长杰 , 胡弦 , 廖飞彪 , 聂婷婷 , 顾得权

材料导报

采用化学复合镀和多弧离子镀的方法,在304不锈钢基材表面制备Ni-P-金刚石/TiAlN双层涂层,采用SEM、磨损试验机、电子天平、光学显微镜研究涂层的摩擦磨损性能,并与相同条件下制备的Ni-P、Ni-P-金刚石、TiAlN涂层进行对比.结果表明,Ni-P-金刚石/TiAlN双层涂层的摩擦系数比Ni-P-金刚石涂层略高,但明显低于Ni-P涂层和TiAlN涂层,摩擦副的质量损失最大,具有最好的抗磨损性能.

关键词: 化学复合镀 , 多弧离子镀 , Ni-P-金刚石/TiAlN , 耐磨性

纳米SiO2在化学镀Ni-P合金镀液中的分散性研究

陈尔跃 , 翟方慧 , 徐娟

电镀与精饰 doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2016.08.001

采用红外-紫外-可见分光光度计法研究了不同表面活性剂、配位剂、纳米SiO2和pH对纳米粒子在溶液中的分散性和稳定性的影响;讨论了在不同温度和纳米粒子含量下,纳米粒子在铜表面的沉积速度.实验结果表明,化学复合镀Ni-P合金最佳工艺及操作条件是表面活性剂为5g/L十二烷基硫酸钠,配位剂为13g/L醋酸钠,2 mL/L乳酸,pH为5.0 ~5.5,3g/L纳米SiO2,θ为80 ~ 85 ℃.

关键词: 分散 , 纳米SiO2 , 化学复合镀 , 分光光度法

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